Изменение структуры и оптических свойств многослойных рентгеновских зеркал C/Si при нагреве

Abstract

Проведено исследование влияния отжига в диапазоне 300—1050°С на структуру и рентгенооптические свойства многослойных наноразмерных рентгеновских зеркал C/Si.Виконано дослідження впливу відпалу в діапазоні 300—1050°С на структуру та рентґенооптичні властивості багатошарових нанорозмірних рентґенівських дзеркал C/Si.Study of annealing influence on structure and X-ray optical properties of nanoscale C/Si-multilayer X-ray mirrors is carried out within the 300—1050°С temperature range.