Вплив підшарів ґерманію на перенесення заряду в плівках хрому нанометрової товщини

Abstract

Розмірні залежності електропровідности плівок хрому товщиною, меншою за 50 нм, сформованих в умовах надвисокого вакууму на поверхні скла та поверхні скла, попередньо покритій підшарами ґерманію, кількісно описано за допомогою теорій квазикласичного та квантового розмірних ефектів. Експериментальні дані добре узгоджуються з результатами теоретичних розрахунків, при проведенні яких враховано особливості структури плівок і морфології їхньої поверхні. Розраховано параметри перенесення заряду в досліджуваних зразках.Размерные зависимости электропроводности плёнок хрома толщиной менее 50 нм, сформированных в условиях сверхвысокого вакуума на поверхности стекла и поверхности стекла, предварительно покрытой подслоями германия, количественно описаны с помощью теорий квазиклассического и квантового размерных эффектов. Экспериментальные данные хорошо согласуются с результатами теоретических расчётов, в которых учитываются особенности строения плёнок и морфологии их поверхности. Рассчитаны параметры переноса заряда в исследованных образцах.Conductivity—size dependences of chromium films with thickness d < 50 nm fabricated under ultrahigh vacuum conditions on both the surface of glass and the surface of glass predeposited with germanium underlayers are quantitatively described by quasi-classical and quantum size effects’ theories. The experimental data are agreed with theoretical calculations taking into account the structure and surface-morphology peculiarities of thin metal films. The charge transport parameters of experimental samples are calculated.