Реконструкция поверхности поликристаллических пленок золота под влиянием температурного отжига
Завантаження...
Дата
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
Видавець
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Анотація
Рассмотрены пленки золота, которые наносили методом термического испарения в вакууме на полированные кварцевые подложки и подвергали термическому отжигу на воздухе в течение 30 мин в интервале температур 80–300 °С. Кристаллическую структуру полученных образцов исследовали методом дифракции рентгеновского характеристического излучения меди.
Gold films of the thickness 40 5 nm were deposited using the method of thermal evaporation in vacuum onto polished silica substrates and undergone to thermal annealing in air for 30 min within the temperature range 80-300 °C. The crystalline structure of these samples was studied using X-ray diffraction of the characteristic Cu K -line.
Gold films of the thickness 40 5 nm were deposited using the method of thermal evaporation in vacuum onto polished silica substrates and undergone to thermal annealing in air for 30 min within the temperature range 80-300 °C. The crystalline structure of these samples was studied using X-ray diffraction of the characteristic Cu K -line.
Опис
Теми
Цитування
Реконструкция поверхности поликристаллических пленок золота под влиянием температурного отжига / Е.В. Костюкевич, С.А. Костюкевич, П.Е. Шепелявый // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2013. — Вип. 48. — С. 121-129. — Бібліогр.: 14 назв. — рос.