Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек
Завантаження...
Дата
Автори
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
Видавець
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Анотація
Применение сухого пленочного фоторезиста в качестве изоляции анодированных алюминиевых подложек ГИС обеспечивает ряд важных преимуществ.
The application of dry film photoresist as a insulation of GIC anodic coating aluminium bases provides number of important advantages.
The application of dry film photoresist as a insulation of GIC anodic coating aluminium bases provides number of important advantages.
Опис
Теми
Технологические процессы
Цитування
Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек / А.В. Короткевич, В.А. Плешкин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1999. — № 5-6. — С. 25-27. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.