Мікромеханічні та електрофізичні властивості наноструктурованих діелектричних покривів Al₂O₃ на плоских нагрівних елементах

Abstract

З використанням іонно-плазмової розрядної системи на плоскому нагрівному елементі з алюмомагнієвого сплаву АМг2 отримано діелектричний шар Al₂O₃ нанорозмірної структури. Напилений шар складається з двох підшарів загальною товщиною 13…15 mm з розміром зерен від 4 до 306 nm. Шорсткість поверхні знаходиться в межах 50...60 nm. За коефіцієнта адгезії HSC ~ 1 мікротвердість шару Al₂O₃ за Меєром становить 0,788, а модульЮнґа – 75,433 GPa.С использованием ионно-плазменной разрядной системы на плоском нагревательном элементе из сплава АМг2 получено диэлектрический слой Al₂O₃ наноразмерной структуры. Напыленный слой состоит из двух подслоев общей толщины 13…15 mm с размером зерен от 4 до 306 nm. Шероховатость поверхности находится в пределах 50…60 nm. При коэффициенте адгезии HSC ~ 1 микротвердость слоя Al₂O₃ по Мееру составляет 0,788, а модуль Юнга – 75,433 GPa.Using the ion-plasma discharge system for film heating elements (substrate Al–Mg alloy) the Al₂O₃ dielectric film with nanoscale structure is obtained. Al₂O₃ layer consists of two sublayers with total thickness of 13…15 mm with a grain size of 4…306 nm. Surface roughness is 50…60 nm. For adhesion coefficient HSC ~ 1 the microhardness of Al₂O₃ layer by Meyer is 0.788, and the Young’s modulus – 75.433 GPa.