Влияние ионно-плазменного воздействия на элементный состав и структурно-фазовое состояние системы Cu-Ti

Abstract

Представлены результаты исследования элементного состава и структурно-фазового состояния системы Cu-Ti после воздействия высокодозной ионной имплантации и электронного отжига импульсным низкоэнергетическим высокотоковым электронным пучком (НВЭП). Установлено, что применение имплантации с высокой дозой ((5…8)∙10¹⁷ ион/см²) и последующим воздействием НВЭП приводит к уменьшению концентрации титана, а с малой дозой до 1∙10¹⁷ ион/см² – к его диффузии вглубину от поверхности. Исследование структурно-фазового состояния показало частичное испарение прослоек карбида титана и формирование субструктуры.Представлені результати дослідження елементного складу та структурно-фазового стану системи Cu-Ti після впливу високої дози іонної імплантації та електронного відпалювання імпульсним низькоенергетичним високострумовим електронним пучком (НВЕП). Встановлено, що застосування імплантації з високою дозою ((5…8)∙10¹⁷ іон/см²) і подальшим впливом НВЕП призводить до зменшення концентрації титану, а з малою дозою до 1∙10¹⁷ іон/см² – до його дифузії вглибину від поверхні. Дослідження структурно-фазового стану показало часткове випаровування прошарків карбіду титану і формування субструктури.The results of the investigations of the elemental composition and phase state of the Cu-Ti system after high-ion implantation and electron annealing by high-current electron beam (HCEB) are presented. It has been established that the use of high dose ((5…8)∙10¹⁷ ions/cm²) implantation and the subsequent effect of HCEB leads to a reduction in the concentration of titanium, and the use of a small dose to 1∙10¹⁷ ions/cm² until it diffuses in depth from the surface. Investigation of the structural-phase state showed a partial evaporation of layers of carbide-titanium and the formation of a substructure.