Effect of time parameters of pulsed bias potential on intrinsic stress in TiN coating deposited from inclined ion beam
Завантаження...
Дата
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
Видавець
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Анотація
In the model of the nonlocal thermoelastic peak of low-energy ion, the formation of intrinsic stress in the coating deposited from inclined ion beam at the pulsed bias potential with different values of pulse frequency f and duration tₚ is analyzed. The stress in the TiN coating deposited from Ti ion flux in the mode of the pulsed bias potential at various angles of incidence α and different values of time parameter τ = f tₚ is calculated. It is established that in the region 0.01 < τ < 0.2 the stress σ varies nonmonotonically with increasing α, decreasing up to angles of incidence α ~ 70º with subsequent growth. The calculated curve σ(τ) coincides with the experimental data at U = 1.5 kV and α = 0.
У моделі нелокального термопружного піку низькоенергетичного іона проаналізовано формування внутрішніх напружень в покритті, що осаджується з похилого пучка іонів при імпульсному потенціалі зміщення з різними значеннями частоти f і тривалості tₚ імпульсів. Проведено розрахунок напружень в TiN-покритті, що осідає з потоку іонів Ti в режимі імпульсного потенціалу при різних кутах падіння іонів α і різних значеннях часового параметра τ = f tₚ. Установлено, що в області 0,01 < τ < 0,2 при збільшенні α напруга σ змінюється немонотонно, зменшуючись аж до кутів падіння α ~ 70º з наступним ростом, причому при U = 1,5 кВ і α = 0 хід розрахункової кривої σ(τ) збігається з експериментальними даними.
В модели нелокального термоупругого пика низкоэнергетического иона проанализировано формирование внутренних напряжений в покрытии, осаждаемом из наклонного пучка ионов при импульсном потенциале смещения с различными значениями частоты f и длительности tₚ импульсов. Проведен расчет напряжений σ в TiN-покрытии, осаждаемом из потока ионов Ti в режиме импульсного потенциала при различных углах падения ионов α и различных значениях временного параметра τ = f tₚ. Установлено, что в области 0,01 < τ <0,2 при увеличении α напряжение σ изменяется немонотонно, уменьшаясь вплоть до углов падения α ~ 70º с последующим ростом, причем при U = 1,5 кВ и α = 0 ход расчетной кривой σ(τ) совпадает с экспериментальными данными.
У моделі нелокального термопружного піку низькоенергетичного іона проаналізовано формування внутрішніх напружень в покритті, що осаджується з похилого пучка іонів при імпульсному потенціалі зміщення з різними значеннями частоти f і тривалості tₚ імпульсів. Проведено розрахунок напружень в TiN-покритті, що осідає з потоку іонів Ti в режимі імпульсного потенціалу при різних кутах падіння іонів α і різних значеннях часового параметра τ = f tₚ. Установлено, що в області 0,01 < τ < 0,2 при збільшенні α напруга σ змінюється немонотонно, зменшуючись аж до кутів падіння α ~ 70º з наступним ростом, причому при U = 1,5 кВ і α = 0 хід розрахункової кривої σ(τ) збігається з експериментальними даними.
В модели нелокального термоупругого пика низкоэнергетического иона проанализировано формирование внутренних напряжений в покрытии, осаждаемом из наклонного пучка ионов при импульсном потенциале смещения с различными значениями частоты f и длительности tₚ импульсов. Проведен расчет напряжений σ в TiN-покрытии, осаждаемом из потока ионов Ti в режиме импульсного потенциала при различных углах падения ионов α и различных значениях временного параметра τ = f tₚ. Установлено, что в области 0,01 < τ <0,2 при увеличении α напряжение σ изменяется немонотонно, уменьшаясь вплоть до углов падения α ~ 70º с последующим ростом, причем при U = 1,5 кВ и α = 0 ход расчетной кривой σ(τ) совпадает с экспериментальными данными.
Опис
Теми
Физика и технология конструкционных материалов
Цитування
Effect of time parameters of pulsed bias potential on intrinsic stress in TiN coating deposited from inclined ion beam / A.I. Kalinichenko, S.S. Perepelkin, E.N. Reshetnyak, V.E. Strel’nitskij // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 1. — С. 114-117. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.