Формирование нанослоя оксида на поверхности Мо(110)

Abstract

Методами молекулярного пучка (МП), изотермической десорбции (ИД), термодесорбционной масс-спектрометрии (ТПД) и оже-электронной спектроскопии исследован процесс формирования слоя оксида на поверхности Мо(110).Методами молекулярного жмута (МЖ), ізотермічної десорбції (ІД), термодесорбційної мас-спектрометрії (ТПД), Оже-електронної спектроскопії (ОЕС) досліджено процес формування оксидного шару на поверхні Мо(110).The process of formation of oxide layer on Mo(110) surface is studied by means of methods of molecular-beam (MB), isothermal desorption (ID), temperature-programmed desorption (TPD) with mass-spectrometric detection, and Auger electron spectroscopy (AES).