Источник ионов для установки ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2

Abstract

Описаны конструкция и особенности плазменного разряда источника ионов с подогреваемым катодом, предназначенного для использования на технологической установке ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2. Приведены зависимости тока пучка от параметров разряда.Описано конструкція та особливості плазмового розряду джерела іонів з катодом, що підігрівається, який призначено для використання на технологічній установці іонно-стимулюючого осадження покриттів АРГО-2. Приведені залежності струму пучка від параметрів розряду.Construction and structural features of plasma discharge of ions source with heated cathode is described. This source intended is used in technological plant ARGO-2 for the ion-stimulated deposition of coatings. Dependences of beam current on the discharge parameters are presented.