Вплив середовища відпалу на швидкість дифузії ніклю до поверхні тонкоплівкової системи Au/Ni

Abstract

За даними мас-спектрометрії вторинних йонів, електронної Оже-спектроскопії, Рентґенової дифракції, оптичної та атомово-силової мікроскопії досліджено інтенсивність розвитку дифузійних процесів і зміни морфології поверхні в системі Au (120 нм)/Ni (70 нм) за умов відпалу за температури 200 °C впродовж 20 хв. у вакуумній камері за різних значень тиску залишкової атмосфери (10⁻³ Па і 10⁻⁶ Па) та в середовищі водню під тиском у 5∙10² Па.По данным масс-спектрометрии вторичных ионов, электронной ожеспектроскопии, рентгеновской дифракции, оптической и атомно-силовой микроскопии исследованы интенсивность развития диффузионных процессов и изменения морфологии поверхности в системе Au (120 нм)/Ni (70 нм) в условиях отжига при температуре 200°C на протяжении 20 мин. в вакуумной камере при различных значениях давления остаточной атмосферы (10⁻³ Па и 10⁻⁶ Па) и в среде водорода при давлении 5∙10² Па.Development of the interdiffusion processes and surface-morphology changes in Au (120 nm)/Ni (70 nm) system are studied during 20 min heating at 200°C in a vacuum with different residual atmosphere pressure (10⁻³ and 10⁻⁶ Pa) and in the ambient of hydrogen at pressure of 5∙10² Pa according to the data of the secondary ion mass-spectrometry (SIMS), Auger electron spectroscopy (AES), x-ray diffraction, optical and atomic force microscopy.