Фоточувствительные олигомеры на основе флуоренилсодержащих диолов
Завантаження...
Дата
Автори
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
Видавець
Інститут загальної та неорганічної хімії ім. В.І. Вернадського НАН України
Анотація
Описан синтез новых мономеров — флуоренилсодержащих диолов. Неравновесной поликонденсацией с дихлорсиланами получены олигоорганосилоксаны. Изучены информационные свойства фототермопластических регистрирующих сред на основе синтезированных олигомеров.
Описано синтез нових мономерів — флуоренілвмісних діолів. Нерівноважною поліконденсацією з дихлорсиланами одержано олігоорганосилоксани. Досліджено інформаційні властивості фототермопластичних реєструючих середовищ на основі синтезованих олігомерів.
The synthesis of new monomers — fluorenylcontaining diols are described. The oligoorganosiloxanes are received by nonequilibrium polycondensation with dichlorsilanes. The information properties of photoplastic films from synthesized oligomers are investigated.
Описано синтез нових мономерів — флуоренілвмісних діолів. Нерівноважною поліконденсацією з дихлорсиланами одержано олігоорганосилоксани. Досліджено інформаційні властивості фототермопластичних реєструючих середовищ на основі синтезованих олігомерів.
The synthesis of new monomers — fluorenylcontaining diols are described. The oligoorganosiloxanes are received by nonequilibrium polycondensation with dichlorsilanes. The information properties of photoplastic films from synthesized oligomers are investigated.
Опис
Теми
Химия высокомолекулярных соединений
Цитування
Фоточувствительные олигомеры на основе флуоренилсодержащих диолов / Л.И. Шолудченко, Ю.П. Гетманчук // Украинский химический журнал. — 2006. — Т. 72, № 6. — С. 115-117. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.