Формирование информационного рельефа в некоторых неметаллических материалах

Abstract

Исследована возможность формирования информационного рельефа в некоторых неметаллических материалах, полученных методом реакционного спекания и горячего прессования (SiC, SiC+В₄С и Si₃N₄, Si₃N₄+В₄С, AlN), а также в монокристаллическом кремнии. Для получения микрорельефа использован метод плазмохимического травления.Досліджено можливість формування інформаційного рельєфу в деяких неметалічних матеріалах, отриманих методом реакційного спікання та гарячого пресування (SiC, SiC+В₄С і Si₃N₄, Si₃N₄+В₄С, AlN), а також у монокристалічному кремнії. Для отримання мікрорельєфу використано метод плазмохімічного травлення.An opportunity of forming the information relief in certain nonmetal materials obtained by a technique of reaction baking and hot pressing (SiC, SiC+В₄С and Si₃N₄, Si₃N₄+В₄С, AlN) as well as in monocrystalline silicon is investigated. For obtaining a microrelief the plasmochemical etching technique is used.