Моделювання радiацiйних та релаксацiйних процесiв в iмплантованих iонами кисню плiвках залiзоiтрiєвого гранату

Завантаження...
Ескіз

Дата

Назва журналу

Номер ISSN

Назва тому

Видавець

Видавничий дім "Академперіодика" НАН України

Анотація

The mechanisms of the formation of defects in superficial layers of epitaxial yttrium iron garnet films during the implantation by oxygen ions (E = 90 keV) are investigated by mathematical modeling methods. Secondary implantation processes and the evolution of the cascade collisions of target atoms up to a thermodynamical equilibrium state are studied.

Опис

Теми

Фізика

Цитування

Моделювання радiацiйних та релаксацiйних процесiв в iмплантованих iонами кисню плiвках залiзоiтрiєвого гранату / Б.К. Остафiйчук, В.М. Ткачук, О.М. Ткачук, В.М. Пилипiв, О.О. Григорук // Доп. НАН України. — 2008. — № 7. — С. 82-85. — Бібліогр.: 7 назв. — укр.

item.page.endorsement

item.page.review

item.page.supplemented

item.page.referenced