Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс”

Abstract

Проведена модернизация промышленной установки фотонного отжига полупроводниковых пластин "Оникс" для обеспечения повторяемости и воспроизводимости температурно-временных циклов отжига малой длительности при высоких скоростях нарастания температуры. Управляющая программа позволяет формировать температурно-временную диаграмму процесса отжига пластин по заданной с точностью установления времени ~0,01 секунды с визуальным контролем.Modernisation of the “Oникс” system for photon annealing of semiconductor wafers was carried out. It has provided to increase a repetition and reproducibility of the temperature-time annealing cycles with small duration at high temperature increasing rate. The control software of the IBM compatible PC allows to form the temperature-time annealing cycle according to adjusted one with the time accuracy established about 0,01 s at the typical annealing time up to 100 s and annealing temperature up to 1000°C.