Моделирование процессов фотолитографии на суперкомпьютере СКИФ К-1000

Abstract

Разработана параллельная реализация моделирования процессов фотолитографии для применения на суперкомпьютере СКИФ К-1000. Использование параллельных средств вычисления позволило получить хорошие результаты по ускорению процесса формирования изображения в слое фоторезиста и последующего автоматического контроля оригиналов топологии.Розроблена паралельна реалізація моделювання процесів фотолітографії для застосування на суперкомп’ютері СКІФ К-1000. Використання паралельних засобів обчислення дозволило одержати добрі результати з прискорення процесу формування зображення в шарі фоторезиста і подальшого автоматичного контролю оригіналів топології.The parallel realization of modeling of photolithography processes was developed for application on supercomputer SKIF К-1000. Parallel means of calculation have allowed accelerating of image generation process in a photoresist layer and the subsequent automatic mask inspection.