Ионно-плазменное нанесение наноструктурированных многокомпонентныхпокрытий на термолабильные материалы

Abstract

Исследованы состав и структура многокомпонентных плёнок, сформированных с помощью вакуумно-дугового источника с локализацией разряда вблизи рабочей поверхности катода, изготовленного из стандартных сплавов. При нанесении в прямом потоке в плёнках сохраняется табличный состав, плотность, электропроводность и другие физико-технические характеристики материала катода.Досліджено склад і структуру багатокомпонентних плівок, сформованих за допомогою вакуумно-дугового джерела з локалізацією розряду поблизу робочої поверхні катоду, виготовленого зі стандартних стопів. При нанесенні у прямому потоці в плівках зберігається табличний склад, густина, електропровідність та інші фізико-технічні характеристики матеріалу катоду.Composition and structure of the multicomponent films are investigated in the case when they are fabricated by the vacuum-arc source with the discharge located near the working surface of the cathode made of the standard alloys. The table composition, density, electric conductivity and other physical and technical specifications of the cathode material are saved when the deposition occurs in the direct flow.