Применение импульсного ВЧ генератора с ударным контуром в методе вакуумно-дугового осаждения при синтезе наноструктурированных покрытий

Abstract

Рассматривается импульсный высокочастотный генератор, применяемый с целью стимуляции осаждения и повышения качества покрытий, формируемых методом вакуумно-дугового осаждения. Принцип работы ВЧ генератора основан на возбуждении затухающих автоколебаний в цепи резонансного контура после пробоя разрядника. Изучены частотные характеристики генератора и рассмотрены варианты аппаратной реализации устройства с оптимальными параметрами.Розглядається імпульсний високочастотний генератор, що застосовується з метою стимуляції осадження і підвищення якості покриттів, які формуються методом вакуумно-дугового осадження. Принцип роботи ВЧ генератора заснований на збудженні загасаючих автоколивань у ланцюзі резонансного контуру після пробою розрядника. Вивчено частотні характеристики генератора і розглянуті варіанти апаратної реалізації пристрою з оптимальними параметрами.The high-frequency pulsed, applied with the purpose of stimulation of deposition and upgrading of the coverages formed by the method of the vacuum-arc deposition, is examined. Principle of work HF generator based on excitation of attenuation self-excited oscillations in the chain of resonant contour after the hasp of spark-gap. Frequency descriptions of generator are studied and the different variants of hardware representation of device are considered with optimal parameters.