Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
Завантаження...
Дата
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
Видавець
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Анотація
We describe the operation of some new axially-symmetric plasma devices based on plasma-optical principles and the plasma lens configuration. Plasma devices of this kind using permanent magnets can be applied in a number of different applications for ion treatment and materials synthesis.
Описуються деякі нові плазмові прилади, основані на використанні принципів плазмооптики та конфігурації плазмової лінзи. Прилади такого типу, що використовують постійні магніти, можуть застосовуватись для іонної обробки та отримання нових матеріалів.
Описываются некоторые новые плазменные приборы, основанные на принципах плазмооптики и конфигурации плазменной линзы. Приборы такого типа, в которых используются постоянные магниты, могут применяться для ионной обработки и получения новых материалов.
Описуються деякі нові плазмові прилади, основані на використанні принципів плазмооптики та конфігурації плазмової лінзи. Прилади такого типу, що використовують постійні магніти, можуть застосовуватись для іонної обробки та отримання нових матеріалів.
Описываются некоторые новые плазменные приборы, основанные на принципах плазмооптики и конфигурации плазменной линзы. Приборы такого типа, в которых используются постоянные магниты, могут применяться для ионной обработки и получения новых материалов.
Опис
Теми
Low temperature plasma and plasma technologies
Цитування
Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications / A. Goncharov, A. Demchishin, A. Dobrovolskiy, E. Kostin, O. Panchenko, C. Pavlov, I. Protsenko, B. Stetsenko, E. Ternovoy, I. G. Brown // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 1. — С.169-171. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.