Surface wave attenuation caused by secondary electron emission
Завантаження...
Дата
Автори
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
Видавець
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Анотація
This study aims to contribute to the analysis of the mechanisms of surface-wave-energy absorption. The discussion is based on a consideration of emissive processes from dielectric surface, which is in contact with collisional nonisothermal plasma, and on an analysis of secondary electron motion in the wave-fields. Through electron acceleration due to the action of ponderomotive force, the secondary emission affects the wave behavior. The role of secondary emission in maintenance of wave-produced gas discharges is discussed as well.
В роботі проведено аналіз механізмів поглинання енергії поверхневих хвиль. Розглянуто процеси емісії з поверхні діелектрика, що знаходиться у контакті з низькотемпературною плазмою. Проведено аналіз руху вторинних електронів в полі хвилі. Показано, що вторинна електронна емісія приводить до додаткового загасання хвилі, обумовленого прискоренням вторинних електронів в полі хвилі, унаслідок дії сили високочастотного тиску. Проведено аналіз впливу вторинної емісії на підтримку розряду на поверхневих хвилях.
Проведен анализ механизмов поглощения энергии поверхностных волн. Рассмотрены эмиссионные процессы с поверхности диэлектрика, находящегося в контакте с низкотемпературной плазмой. Проведен анализ движения вторичных электронов в поле волны. Показано, что вторичная электронная эмиссия приводит к дополнительному затуханию волны, обусловленному ускорением вторичных электронов в поле волны, вследствие действия силы высокочастотного давления. Проведен анализ влияния вторичной эмиссии на поддержание разряда на поверхностных волнах.
В роботі проведено аналіз механізмів поглинання енергії поверхневих хвиль. Розглянуто процеси емісії з поверхні діелектрика, що знаходиться у контакті з низькотемпературною плазмою. Проведено аналіз руху вторинних електронів в полі хвилі. Показано, що вторинна електронна емісія приводить до додаткового загасання хвилі, обумовленого прискоренням вторинних електронів в полі хвилі, унаслідок дії сили високочастотного тиску. Проведено аналіз впливу вторинної емісії на підтримку розряду на поверхневих хвилях.
Проведен анализ механизмов поглощения энергии поверхностных волн. Рассмотрены эмиссионные процессы с поверхности диэлектрика, находящегося в контакте с низкотемпературной плазмой. Проведен анализ движения вторичных электронов в поле волны. Показано, что вторичная электронная эмиссия приводит к дополнительному затуханию волны, обусловленному ускорением вторичных электронов в поле волны, вследствие действия силы высокочастотного давления. Проведен анализ влияния вторичной эмиссии на поддержание разряда на поверхностных волнах.
Опис
Теми
Basic plasma physics
Цитування
Surface wave attenuation caused by secondary electron emission/ Yu.A. Akimov, V.P. Olefir // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 2. — С. 64-66. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.