Relativistic electron beam pinching in plasma and cumulation of ions

Завантаження...
Ескіз

Дата

Назва журналу

Номер ISSN

Назва тому

Видавець

Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України

Анотація

A process of the high-current relativistic electron beam pinching propagating in plasma has been considered. A time of pinching of an electron - ion system has been defined. Maximum compression ratio, the ion density and temperature are found.
Розглянуто процес пінчування релятивістського електронного пучка, що поширюється у плазмі. Визначено час пінчування електронно-іонної системи. Знайдені максимальна ступінь компресії, іонна густина та температура.
Рассмотрен процесс пинчевания релятивистского электронного пучка, распространяющегося в плазме. Определено время пинчевания электронно-ионной системы. Найдены максимальная степень компрессии, ионные плотность и температура.

Опис

Теми

Plasma electronics

Цитування

Relativistic electron beam pinching in plasma and cumulation of ions / Ya.B. Fainberg, V.A. Balakirev, I.V. Karas’, V.I. Karas’ // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 2. — С. 128-130. — Бібліогр.: 3 назв. — англ.

item.page.endorsement

item.page.review

item.page.supplemented

item.page.referenced