Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems

Abstract

The high-current pulsed magnetron sputtering system is presented and its operation regimes are studied. The comparative technological trials of the system are carried out at various types of the discharge: stationary magnetron, pulsed magnetron and pulsed arc. A procedure of calculation of dynamics and distribution of temperature in a near surface layer of the target material at heat application to a surface in conditions of low pressures of working gases is described.Описана сильнострумова імпульсна магнетронна розпилювальна система та вивчені режими її роботи. Проведені порівняльні технологічні випробування системи при різних типах розряду: стаціонарному магнетронному, імпульсному магнетронному та імпульсному дуговому. Приведена методика розрахунку динаміки і розподілу температури в приповерхневому шарі матеріалу мішені при підводі тепла до поверхні в умовах низьких тисків робочих газів.Представлена сильноточная импульсная магнетронная распылительная система и изучены режимы ее работы. Проведены сравнительные технологические испытания системы при различных типах разряда: стационарном магнетронном, импульсном магнетронном и импульсном дуговом. Приведена методика вычисления динамики и распределения температуры в приповерхностном слое материала мишени при подводе тепла к поверхности в условиях низких давлений рабочих газов.