Coating in the arc discharges with plasma flow filtration

Завантаження...
Ескіз

Дата

Назва журналу

Номер ISSN

Назва тому

Видавець

Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України

Анотація

Experimental results of coating deposition with application of an “open architecture” filter to reduce the dropwise component in the discharge [1,2] are presented in this paper. The filter is located in a separate chamber conjugate with the presented system. A curvilinear (with an angle 90°) solenoid creating a transporting magnetic field [3] is used as the “open architecture” filter. Performing probe measurements of the ion saturation current dependences on the current of focussing coil, pressure of inert gas (argon) and reactionary gas (nitrogen). The measurement results of substrate temperature, deposition rate of coating.
Представлены экспериментальные результаты нанесения покрытий PVD методом с применением фильтра «открытой архитектуры» для уменьшения капельной составляющей в разряде [1,2]. Представлен фильтр «открытой архитектуры», помещённый в отдельную камеру, сопряжённую с установкой. В качестве фильтра применяется соленоид, создающий криволинейное (с углом 90°) транспортирующее магнитное поле [3]. С помощью зондовых измерений получены зависимости ионного тока коллектора от изменения: тока фокусирующей катушки, давления инертного газа (аргона) и реакционного газа (азота). Представлены результаты измерения температуры подложки, скорость осаждения покрытия.
Представлено експериментальні результати нанесення покрить PVD методом із застосуванням фільтру «відкритої архітектури» для зменшення краплинної складової в розряді [1,2]. Представлено фільтр «відкритої архітектури», який знаходиться в окремій камері, що сполучена з установкою. Як фільтр застосовується соленоїд, що створює криволінійне (з кутом 90°) транспортуюче магнітне поле [3]. За допомогою зондових вимірів отримані залежності іонного струму колектора від змін: струму фокусуючої котушки, тиску інертного газу (аргону) і реакційного газу (азоту). Представлено результати вимірів температури підкладки, швидкість осадження покриття.

Опис

Теми

Low temperature plasma and plasma technologies

Цитування

Coating in the arc discharges with plasma flow filtration / V. V. Gasilin, V.A. Zavaleyev, Yu. N. Nezovibat’ko, O.M. Shvets, V.S. Taran, E.V. Skorina // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 6. — С. 210-212. — Бібліогр.: 3 назв. — англ.

item.page.endorsement

item.page.review

item.page.supplemented

item.page.referenced