Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size
Завантаження...
Файли
Дата
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
Видавець
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Анотація
Опис
Теми
Low Temperature Plasma and Plasma Technologies
Цитування
Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size / T. Famakinwa, S. Ikezawa, H. Homyara, T. Yoshioka, K. Nakamura, Y. Ninomiya, H. Oda, T. Hara, M. Hori, S. Fujii, K. Yoshimura and H. Taoda // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 3. — С. 159-161. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.