Simulating study of plasmachemical erosion of a-C:H films in a ECR discharge plasma
Завантаження...
Дата
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
Видавець
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Анотація
The dynamics of interference figure of the reflection spectrum for stainless steel and copper mirrors with specially
deposited carbon-containing film (ɚ-C:H) were studied when the film was gradually eroded under impact of a deuterium
plasma produced in conditions of electron cyclotron resonance (ECR). The refraction coefficient of the film was
estimated and the rate of the film removal was obtained.
Досліджувалася динаміка інтерференційної картини спектру віддзеркалення сталевих і мідних дзеркал з штучно нанесеною вуглецьвмісною плівкою (a-C:H) по мірі розпилювання в дейтерієвій плазмі ЕЦР-розряду. Проведена оцінка коефіцієнта заломлення плівки. Отримана кількісна оцінка швидкості розпилювання.
Исследовалась динамика интерференционной картины спектра отражения стальных и медных зеркал с искусственно нанесенной углеродсодержащей пленкой (a-C:H) по мере распыления в дейтериевой плазме ЭЦР-разряда. Проведена оценка коэффициента преломления пленки. Получена количественная оценка скорости распыления.
Досліджувалася динаміка інтерференційної картини спектру віддзеркалення сталевих і мідних дзеркал з штучно нанесеною вуглецьвмісною плівкою (a-C:H) по мірі розпилювання в дейтерієвій плазмі ЕЦР-розряду. Проведена оцінка коефіцієнта заломлення плівки. Отримана кількісна оцінка швидкості розпилювання.
Исследовалась динамика интерференционной картины спектра отражения стальных и медных зеркал с искусственно нанесенной углеродсодержащей пленкой (a-C:H) по мере распыления в дейтериевой плазме ЭЦР-разряда. Проведена оценка коэффициента преломления пленки. Получена количественная оценка скорости распыления.
Опис
Теми
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
Цитування
Simulating study of plasmachemical erosion of a-C:H films in a ECR discharge plasma / V.G. Konovalov, M.N. Makhov, I.V. Ryzhkov, A.N. Shapoval, A.F. Shtan’, O.A. Skorik, S.I. Solodovchenko, A.I. Timoshenko, V.S. Voitsenya // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 1. — С. 146-148. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.