Mathematic modeling the oxygen distribution mechanism in Si ingots during growing processes

Завантаження...
Ескіз

Дата

Назва журналу

Номер ISSN

Назва тому

Видавець

Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України

Анотація

The article provides specified mathematic modeling of oxygen distribution mechanism in Si ingots. Experimentally such model parameters as quartz melting speed for different melting zones, initial oxygen concentration in melt, influence of crucible rotation speed on melting rate. The work outlines the results of computer modeling. The results of theoretical and experimental investigations carried make possible to predict oxygen concentration in Si ingot and define the technology parameters for growing ingots of stated concentration.

Опис

Теми

Цитування

Mathematic modeling the oxygen distribution mechanism in Si ingots during growing processes / A.P. Oksanich, S.E. Pritchin, A.V. Vasheruk // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2004. — Т. 7, № 3. — С. 236-239. — Бібліогр.: 8 назв. — англ.

item.page.endorsement

item.page.review

item.page.supplemented

item.page.referenced