Contact electrodeposition of CdTe thin films
Завантаження...
Дата
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
Видавець
НТК «Інститут монокристалів» НАН України
Анотація
The effect of contact electrodeposition conditions on the impurity content in CdTe films has been studied. Stoichiometric single-phase CdTe layers of cubic modification have been obtained. The films are not texturized, and are characterized by the coherent-scattering region size of about 30 nm and the relative micro-strain values of about 5·10⁻³.
Досліджено вплив контактного електроосадження на вміст домішок у плівках CdTe. Одержано стехіометричні однофазові шари CdTe кубічної модифікації . Плівки є нетекс турованими і характеризуються розміром областей когерентного розсіювання ≈ 30 нм та значенням відносних мікродеформацій ≈ 5·10⁻³.
Изучено влияние условий контактного электроосаждеmrя на содержание примесей в пленках CdTe. Получены стехиометрические однофазные слои CdTe кубической модификации. Пленки не текстурированы, характеризуются размером областей когеррентного рассеяния ≈ 30 нм и значениями относительных микродеформаций ≈ 5·10⁻³.
Досліджено вплив контактного електроосадження на вміст домішок у плівках CdTe. Одержано стехіометричні однофазові шари CdTe кубічної модифікації . Плівки є нетекс турованими і характеризуються розміром областей когерентного розсіювання ≈ 30 нм та значенням відносних мікродеформацій ≈ 5·10⁻³.
Изучено влияние условий контактного электроосаждеmrя на содержание примесей в пленках CdTe. Получены стехиометрические однофазные слои CdTe кубической модификации. Пленки не текстурированы, характеризуются размером областей когеррентного рассеяния ≈ 30 нм и значениями относительных микродеформаций ≈ 5·10⁻³.
Опис
Теми
Characterization and properties
Цитування
Contact electrodeposition of CdTe thin films // N.P. Klochko, N.D. Volkova, M.M. Kharchenko, V.R. Kopach // Functional Materials. — 2009. — Т. 16, № 2. — С. 190-191. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.