Кінетика диспергування під час відпалу у вакуумі тонких подвійних хромомідних плівок, нанесених на оксидні матеріали

Abstract

Досліджено кінетику диспергування тонких хромомідних подвійних плівок, нанесених на лейкосапфір, алюмооксидну та диоксидноцирконієву кераміки та відпалених у вакуумі за температур до 1100 °С впродовж різних термінів витримки за кожної температури (від 5 до 20 хв).Исследована кинетика диспергирования тонких хромомедных двойных пленок, нанесенных на лейкосапфир, алюмооксидную и диоксидноциркониевую керамики и отожженных в вакууме при температурах до 1100 °С и разных интервалах выдержки при каждой температуре (от 5 до 20 мин).The kinetics dispersion of thin chromium-copper double films deposited onto leucosapphire, alumina and zirconia ceramics and annealed in vacuum at temperatures up to 1100 °C at different exposure intervals at each temperature (from 5 to 20 min) was studied.