Влияние оксидных слоев на электрокристаллизацию бериллия в хлоридном расплаве

Abstract

Необходимо было исследовать влияние степени окисления поверхностных слоев подложки на зародышеобразование кристаллов при электроосаждении бериллия. Повышенная склонность его хлорида к гидролизу и исключительная способность металла к сорбции примесей и образованию прочных поверхностных соединений являются источником омической составляющей, искажающей величину кристаллизационного перенапряжения.