Формування поверхневих періодичних наноструктур темплатною методою

Abstract

Самоорганізація острівцевого осаду на поверхні полімерної плівки з потенціяльним рельєфом порядку 10⁸ В/м призводить до формування топології, яка співпадає із топологією експонівного світлового поля. Ефект реалізовано у темплатній методі виготовлення двовимірних діелектричних та металдіелектричних структур. На таких двовимірних періодичних структурах з періодом 800—6000 нм та висотою рельєфу 3,5—650 нм виникають резонанси, характерні для фотонно-кристалічних та плазмон-поляритонних 2D-структур в умовах повного внутрішнього відбивання.Штучний дефект періодичности суттєво впливає на резонанс.Discontinuous deposit self-organization on a surface of polymeric film with a potential relief of about 10⁸ V/m results in formation of topology, which coincides with topology of an exposure light field. Effect is realized within the scope of the template method of fabrication of two-dimensional dielectric and metal—dielectric structures. Two-dimensional periodical structures with the periods of 800—6000 nm and the relief heights of 3.5—650 nm show resonances characteristic for photon—crystal and plasmon—polariton 2D structures in conditions of internal reflectance. Artificial defect of periodicity essentially influences a resonance.Самоорганизация островкового осадка на поверхности полимерной пленки с потенциальным рельефом порядка 10⁸ В/м приводит к формированию топологии, которая совпадает с топологиею экспонирующего светового поля. Эффект реализован в темплатном методе изготовления двумерных диэлектрических и металлиэлектрических структур. На таких двумерных периодических структурах с периодами 800—6000 нм и высотой рельефа 3,5—650 нм возникают резонансы, характерные для фотонно-кристаллических и плазмоноляритонных 2D-структур в условиях полного внутреннего отражения. Искусственныйдефект периодичностисущественно влияет на резонанс.