Формирование неоднородной структуры в приповерхностных слоях NiTi в результате ионной имплантации

Abstract

В работе представлены результаты исследования структуры и химического состава NiTi после имплантации ионами N⁺, N⁺ и Ni⁺. Предложена модель процессов, происходящих в приповерхностных слоях NiTi. Показано, что в приповерхностном слое формируется двойной слой, состоящий из частично аморфизированной микроструктуры, обогащенной Ti и Ni, под которым находится слой микрокристаллической структуры, обогащенный Ti.Представлені результати дослідження структури і хімічного складу NiTi після імплантації іонами N⁺, N⁺ і Ni⁺. Запропонована модель процесів, що відбуваються в приповерхневих шарах NiTi. Показано, що в приповерхневому шарі формується подвійний шар, який складається з частково-аморфізованої мікроструктури, збагаченої Ti і Ni, під яким знаходиться шар мікрокристалічної структури, збагачений Ti.In work results researches of structure and chemical composition of NiTi, are presented after implantation, N⁺ and Ni⁺ the ions of N⁺. The model of processes, what be going on in the near-surface layers of NiTi is offered. Showed that a double layer, consisting of partly amorphous microstructure, enriched Ti and Ni, is formed in a nearsurface layer, which a layer of microcrystalline structure is under, enriched Ti.