Модель формирования слоистой структуры покрытий, получаемых методом вакуумно – дугового осаждения

Abstract

Приводятся расчетные формулы и на их основе анализ распределения скоростей конденсации потоков вещества, генерируемых вакуумно-дуговым источником, толщины покрытий, а также характера формируемых слоистых структур в зависимости от геометрии системы катод – подложка. В качестве примера рассматривается процесс формирования многослойного покрытия на основе нитридов титана и хрома.Надаються розрахункові формули й на їхній підставі аналіз розподілу швидкостей конденсації потоків речовини, які генеруються вакуумно-дуговым джерелом, товщини покриттів, а також характеру формованих шаруватих структур залежно від геометрії системи катод – підкладка. Як приклад розглядається процес формування бгатошарового покриття на основі нітридів титану й хрому.Analysis of speed distribution of matter flows condensation, which are generated by vacuum-arc source, analyses of covering thickness, as well as the nature of formed layered structures depending on geometry of the system “cathode-substrate” are carried out on the basis of calculation formula given in the present work. Formation process of multi-layer covering on the basis of Ti and Cr nitrides is considered as an example.