Влияние температуры подложки на внутренние напряжения и структуру алмазоподобного покрытия при ионном осаждении

dc.contributor.authorКалиниченко, А.И.
dc.contributor.authorПерепёлкин, С.С.
dc.contributor.authorСтрельницкий, В.Е.
dc.date.accessioned2017-01-06T15:40:29Z
dc.date.available2017-01-06T15:40:29Z
dc.date.issued2008
dc.description.abstractВ модели приповерхностного нелокального термоупругого пика иона получено аналитическое выражение для напряжений сжатия σγ в ta-C-покрытии при осаждении потока низкоэнергетических ионов C+ с энергией 25…1000 эВ. При температуре осаждения T₀ = 300 K напряжения сжатия изменяются с энергией иона в соответствии с экспериментальными данными, если энергия активации кинетического процесса релаксации напряжений составляет величину U ~ 0,3 эВ, типичную для междоузельных дефектов. Значительное падение σγ с ростом температуры используется для объяснения факта радикального уменьшения доли sp³-связей в осаждаемом углеродном покрытии при увеличении температуры осаждения от 300 до 600 K.uk_UA
dc.description.abstractУ моделі приповерхнього нелокального термопружного піка іона отримане аналітичне вираження для напруг стиску σγ в ta-C-покритті при осадженні потоку низькоенергетичних іонів C+ з енергією 25…1000 еВ. При температурі осадження T₀ = 300 K розраховані напруження стиску змінюються з енергією іона відповідно до експериментальних даних, якщо енергія активації кінетичного процесу релаксації напружень складає величину U ~ 0,3 еВ, типову для активації міжвузлових дефектів. Значне падіння σγ з ростом температури використовується для пояснення факту радикального зменшення частки sp³-зв'язків у вуглецевому покритті, що осаджується при збільшенні температури осадження від 300 до 600 K.uk_UA
dc.description.abstractIn the model of near-surface nonlocal thermoelastic peak of the ion, an analytic expression for compressive stress σγ in ta-C coating deposited from low-energy ions C+ is derived. At deposition temperature T₀ = 300 K, the calculated compressive stress changes with ion energy in accordance with experimental data subject to the activation energy U of a kinetic process of stress relaxation is equal to 0.3 eV. This value is typical for energy of migration of interstitial defects. Considerable decrease of σγ with temperature of deposition is used for explanation of drastic reduction of part of sp³ bonds in deposited ta-C coating when T0 increases from 300 to 600 K.uk_UA
dc.description.sponsorshipРабота выполнена при частичной поддержке УНТЦ, проект № 4180.uk_UA
dc.identifier.citationВлияние температуры подложки на внутренние напряжения и структуру алмазоподобного покрытия при ионном осаждении / А.И. Калиниченко, С.С. Перепёлкин, В.Е. Стрельницкий // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 1. — С. 147-151. — Бібліогр.: 13 назв. — рос.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.udc537.534.2:679.826
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110857
dc.language.isoruuk_UA
dc.publisherНаціональний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofВопросы атомной науки и техники
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectФизика и технология конструкционных материаловuk_UA
dc.titleВлияние температуры подложки на внутренние напряжения и структуру алмазоподобного покрытия при ионном осажденииuk_UA
dc.title.alternativeВплив температури підкладки на внутрішні напруження та структуру алмазоподобного покриття при іонному осадженніuk_UA
dc.title.alternativeInfluence of substrate temperature on intrinsic stress and structure of diamond-like coating at ion depositionuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
28-Kalinichenko.pdf
Розмір:
397.39 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Опис:
Стаття

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: