Modification of coating-substrate systems under the action of compression plasma flow

dc.contributor.authorAstashynski, V.M.
dc.contributor.authorGimro, I.G.
dc.contributor.authorKuzmitski, A.M.
dc.contributor.authorKostyukevich, E.A.
dc.contributor.authorKovyazo, A.V.
dc.contributor.authorMishchuk, A.A.
dc.contributor.authorUglov, V.V.
dc.contributor.authorAnishchik, V.M.
dc.contributor.authorCherenda, N.N.
dc.contributor.authorStalmashonak, E.K.
dc.date.accessioned2015-04-04T18:40:41Z
dc.date.available2015-04-04T18:40:41Z
dc.date.issued2005
dc.description.abstractThe results of studying changes in physical and mechanical properties of coating-substrate systems subjected to the compression plasma flow are presented. The possibility for doping the substrate both with pre-deposited coating components and with plasma-forming substance during liquid-phase mixing and resolidification of near-surface layers melted by the compression plasma flow is shown.uk_UA
dc.description.abstractПредставлено результати досліджень зміни фізико-механічних властивостей систем покриття-підкладка при впливі на них компресійним плазмовим потоком. Продемонстровано можливість легування матеріалу підкладки як компонентом попередньо нанесеного покриття, так і робочою речовиною плазми, у процесі рідкофазного перемішування і перезатвердіння розплавлених під дією компресійного плазмового потоку приповерхніх шарів.uk_UA
dc.description.abstractПредставлены результаты исследований изменения физико-механических свойств систем покрытие- подложка при воздействии на них компрессионным плазменным потоком. Продемонстрирована возможность легирования материала подложки как компонентом предварительно нанесенного покрытия, так и рабочим веществом плазмы, в процессе жидкофазного перемешивания и перезатвердевания расплавленных под действием компрессионного плазменного потока приповерхностных слоев.uk_UA
dc.identifier.citationModification of coating-substrate systems under the action of compression plasma flow / V.M. Astashynski, I.G. Gimro, A.M. Kuzmitski, E.A. Kostyukevich, A.V. Kovyazo, A.A. Mishchuk, V.V. Uglov, V.M. Anishchik, N.N. Cherenda, E.K. Stalmashonak // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 2. — С. 217-219. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.otherPACS: 52.40.Hf
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79781
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherНаціональний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofВопросы атомной науки и техники
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectLow temperature plasma and plasma technologiesuk_UA
dc.titleModification of coating-substrate systems under the action of compression plasma flowuk_UA
dc.title.alternativeМодифікація систем покриття-підкладка впливом компресійного плазмового потокуuk_UA
dc.title.alternativeМодификация систем покрытие-подложка воздействием компрессионного плазменного потокаuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
137-Astashynski.pdf
Розмір:
644.94 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: