Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si

dc.contributor.authorМовчан, Б.А.
dc.contributor.authorУстинов, А.И.
dc.contributor.authorПолищук, С.С.
dc.contributor.authorМельниченко, Т.В.
dc.date.accessioned2016-02-08T12:53:15Z
dc.date.available2016-02-08T12:53:15Z
dc.date.issued2003
dc.description.abstractИзучены структурные изменения в микрослойных покрытиях (Ti,Cr)-Si в процессе изотермических отжигов при температурах 800, 1000 и 1100 °С. Микрослойную структуру получали путем электронно-лучевого испарения двух слитков (Ti-Cr и Si) и конденсации в вакууме несмешивающихся паровых потоков. Показано, что при диффузионном взаимодействии между слоями микрослойная структура покрытия разрушается и образуется структура на основе икосаэдрической (или аппроксимантной к ней) фазы.uk_UA
dc.identifier.citationОбразование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si / Б.А. Мовчан, А.И. Устинов, С.С. Полищук, Т.В. Мельниченко // Современная электрометаллургия. — 2003. — № 1. — С. 15-18. — Бібліогр.: 13 назв. — рос.uk_UA
dc.identifier.issn0233-7681
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/94056
dc.language.isoruuk_UA
dc.publisherІнститут електрозварювання ім. Є.О. Патона НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofСовременная электрометаллургия
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectЭлектронно-лучевые процессыuk_UA
dc.titleОбразование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Siuk_UA
dc.title.alternativeFormation of quasi-crystalline structures in annealing of microlayer coatings (Ti, Cr)-Siuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
04-Movchan.pdf
Розмір:
836.13 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: