The capacitive component of double layer current in plasma

dc.contributor.authorHrechko, Ya.O.
dc.contributor.authorAzarenkov, N.A.
dc.contributor.authorBabenko, Ie.V.
dc.contributor.authorRyabchikov, D.L.
dc.contributor.authorSereda, I.N.
dc.contributor.authorShovkun, M.A.
dc.contributor.authorTseluyko, A.F.
dc.date.accessioned2017-06-28T05:35:33Z
dc.date.available2017-06-28T05:35:33Z
dc.date.issued2017
dc.description.abstractThe features of nonstationary double layers in the high-current pulsed discharges have been theoretically and experimentally investigated in this paper. The expression for the capacity of strong double layer in quasi-MHD approximation has been obtained and the area of its applicability has been indicated. The equation for the capacitive component of the double layer current has been derived in this paper. The dynamics of the double layer current capacitive component in the high-current pulsed discharge and the way to verify the calculations has been shown.uk_UA
dc.description.abstractТеоретически и экспериментально исследуются особенности нестационарных двойных слоёв в сильноточных импульсных разрядах. В квази-МГД-приближении получено выражение для ёмкости сильного двойного слоя и указана область его применимости. Получено уравнение для ёмкостной составляющей тока двойного слоя. Показана динамика ёмкостной составляющей тока двойного слоя в сильноточном импульсном разряде и приведен способ верификации расчётов.uk_UA
dc.description.abstractТеоретично та експериментально досліджуються особливості нестаціонарних подвійних шарів у си-льнострумових імпульсних розрядах. У квазі-МГД-наближенні отримано вираз для ємності сильного подвійного шару та вказана область його застосування. Отримано рівняння для ємнісної складової струму подвійного шару. Показана динаміка ємнісної складової струму подвійного шару в сильнострумовому імпульсному розряді та приведено спосіб верифікації розрахунків.uk_UA
dc.identifier.citationThe capacitive component of double layer current in plasma / Ya.O. Hrechko, N.A. Azarenkov, Ie.V. Babenko, D.L. Ryabchikov, I.N. Sereda, M.A. Shovkun, A.F. Tseluyko // Вопросы атомной науки и техники. — 2017. — № 1. — С. 219-222. — Бібліогр.: 3 назв. — англ.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.otherPACS: 52.40.Kh, 52.58.Lq, 52.59.Mv
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/122155
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherНаціональний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofВопросы атомной науки и техники
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectНизкотемпературная плазма и плазменные технологииuk_UA
dc.titleThe capacitive component of double layer current in plasmauk_UA
dc.title.alternativeЁмкостная составляющая тока двойного слоя в плазмеuk_UA
dc.title.alternativeЄмнісна складова струму подвійного шару в плазміuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
54-Hrechko.pdf
Розмір:
919.04 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Опис:
Стаття

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: