Effect of electron emission processes on macroparticle charging in plasma systems with electron beam

Abstract

The effect of different electron emission processes on macropraticle (MP) charging in a plasma at the presence of electron beam is investigated. A complete model of the MP charging in the beam-plasma systems, which includes possible electron emission processes from the MP surface, such as secondary electron emission, the thermionic electron emission, the field electron emission and thermal-field electron emission, is presented.Досліджено вплив різних процесів електронної емісії на зарядження макрочастинки (МЧ) у плазмі у присутності електронного пучка. Подано повну модель зарядження МЧ у пучково-плазмових системах, до складу якої входять можливі процеси електронної емісії з поверхні МЧ, такі як вторинна електронелектронна емісія, термоелектронна, автоелектронна та термоавтоелектронна емісії.Исследовано влияние различных процессов электронной эмиссии на зарядку макрочастицы (МЧ) в плазме в присутствии электронного пучка. Представлена полная модель зарядки МЧ в пучково-плазменных системах, которая включает в себя возможные процессы электронной эмиссии с поверхности МЧ, такие как вторичная электрон-электронная эмиссия, термоэлектронная, автоэлектронная, термоавтоэлектронная эмиссии.