Vacuum-arc plasma source with steered cathode spot

Abstract

The improved version of a vacuum arc plasma source with magnetic control of a cathode spot and focusing of plasma stream is described. The advanced structure of the cathode unit, the shortened anode and their swing joint with each other allowed reducing overall dimensions of a source, lowering its material capacity, increasing weight of the consumable cathode material, simplifying procedure of replacement of the cathode, improving design and raising performance data of the source. On operational characteristics of the new plasma source exceeds the best modern plasma sources of similar designation.

Описаний удосконалений варіант вакуумно-дугового джерела плазми з керованою магнітним полем катодною плямою й фокусуванням вихідного плазмового потоку. Удосконалена конструкцію катодного вузла, укорочений анод та їх шарнірне з’єднання один з одним дозволили скоротити габаритні розміри джерела, знизити його матеріалоємність, збільшити масу катодного матеріалу, що витрачається, спростити операцію заміни катода, покращити дизайн і підвищити робочі характеристики джерела.

Описан усовершенствованный вариант вакуумно-дугового источника плазмы с магнитным управлением катодным пятном и фокусировкой выходного потока. Усовершенствованная конструкция катодного узла, укороченный анод и их шарнирное соединение друг с другом позволили сократить габаритные размеры источника, снизить его материалоёмкость, увеличить массу расходуемого катодного материала, упростить операцию замены катода, улучшить дизайн и повысить рабочие характеристики источника.