High pressure plasma confinement and stability in gas dynamic trap

dc.contributor.authorIvanov, A.A.
dc.contributor.authorAnikeev, A.V.
dc.contributor.authorBagryansky, P.A.
dc.contributor.authorKarpushov, A.N.
dc.contributor.authorKorepanov, S.A.
dc.contributor.authorKornilov, V.N.
dc.contributor.authorLizunov, A.A.
dc.contributor.authorMaximov, V.V.
dc.contributor.authorMurakhtin, S.V.
dc.date.accessioned2015-05-29T06:11:49Z
dc.date.available2015-05-29T06:11:49Z
dc.date.issued2000
dc.description.abstractThe paper reviews recent results obtained in the studies of high beta plasma confinement in Gas-Dynamic Trap (GDT) device. Successful application of Ti -gettering and increase of NB injection power and duration enable to obtain a plasma as high as 30%. Enery balance and stability of this high beta plasma with a density of ~3 10¹³ cm⁻³ were thoroughly studied. Confinement of more dense plasma with steeper density gradients was also studied in the experiment with on-axis gas puff in the central cell.uk_UA
dc.identifier.citationHigh pressure plasma confinement and stability in gas dynamic trap / A.A. Ivanov, A.V. Anikeev, P.A. Bagryansky, A.N. Karpushov, S.A. Korepanov, V.N. Kornilov, A.A. Lizunov, V.V. Maximov, S.V. Murakhtin // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 3. — С. 51-53. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.udc533.9
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82368
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherНаціональний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofВопросы атомной науки и техники
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectМagnetic Confinementuk_UA
dc.titleHigh pressure plasma confinement and stability in gas dynamic trapuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
14-Ivanov.pdf
Розмір:
250.2 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: