Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления

Скорочена інформація про документ
dc.contributor.authorВакив, Н.М.
dc.contributor.authorПогорилко, Я.Р.
dc.contributor.authorШпотюк, О.И.
dc.date.accessioned2018-07-15T11:32:07Z
dc.date.available2018-07-15T11:32:07Z
dc.date.issued1998
dc.description.abstractОбсуждается получение резистивных тонкопленочных конденсатов ионно-плазменным распылением металлосилицидных и керметных мишеней на установках УВН-75Р-3.uk_UA
dc.description.abstractThe realization of resistive thin-film condensats silicide targets by ion-plasma spraying of metalsilicide and cermet targets on ÓBH-O75P-3 sputtering plant are discussed.uk_UA
dc.identifier.citationПолучение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления / Н.М. Вакив, Я.Р. Погорилко, О.И. Шпотюк // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1998. — № 3-4. — С. 26-27. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.uk_UA
dc.identifier.issn2225-5818
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/140779
dc.language.isoruuk_UA
dc.publisherІнститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofТехнология и конструирование в электронной аппаратуре
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectТехнологические процессыuk_UA
dc.titleПолучение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыленияuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
13-Vakiv.pdf
Розмір:
156.61 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Завантажити

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Завантажити

Колекція

Технология и конструиров. в электронной аппаратуре, 1998, № 3-4