Коррекция оптических эффектов близости при проектировании микросхем

Скорочена інформація про документ
dc.contributor.authorРодионов И.А., И.А.
dc.contributor.authorМакарчук, В.В.
dc.date.accessioned2014-01-07T18:46:50Z
dc.date.available2014-01-07T18:46:50Z
dc.date.issued2007
dc.description.abstractНа основании проведенных исследований был спроектирован фотошаблон для отработки режимов фотолитографии и дальнейшего изучения влияния эффектов оптической близости.uk_UA
dc.identifier.citationКоррекция оптических эффектов близости при проектировании микросхем / И.А. Родионов, В.В. Макарчук // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2007. — № 3. — С. 30-32. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.uk_UA
dc.identifier.issn2225-5818
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52809
dc.language.isoruuk_UA
dc.publisherІнститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofТехнология и конструирование в электронной аппаратуре
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectЭлектронные средства: исследования, разработкиuk_UA
dc.titleКоррекция оптических эффектов близости при проектировании микросхемuk_UA
dc.title.alternativeКорекція оптичних ефектів близькості при проектуванні мікросхемuk_UA
dc.title.alternativeOptical proximity correction in IC productionuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
06-RodionovNEW.pdf
Розмір:
113.35 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Завантажити

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Завантажити

Колекція

Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 2007, № 3