Фоточувствительность и механизм протекания тока в гетероструктурах p-CdTe-SiO₂-Si с глубокими примесными уровнями
dc.contributor.author | Жураев, Н. | |
dc.contributor.author | Халилов, М. | |
dc.contributor.author | Отажонов, С. | |
dc.contributor.author | Алимов, Н. | |
dc.date.accessioned | 2017-07-15T14:32:14Z | |
dc.date.available | 2017-07-15T14:32:14Z | |
dc.date.issued | 2017 | |
dc.description.abstract | Изучено фоточувствительность и механизм протекания тока в низкоразмерных гетероструктурах p-CdTe-SiO₂-Si с глубокими примесными уровнями. Обнаружена пикосекундная фотопроводимость, что свидетельствует о наличии большой концентрации поверхностных рекомбинационных центров в пленках CdTe. | uk_UA |
dc.description.abstract | Вивчено фоточувствительность і механізм протікання струму в низьковимірних гетероструктурах p-CdTe-SiO₂-Si з глибокими домішковими рівнями. Виявлена пікосекундна фотопровідність, що свідчить про наявність великої концентрації поверхневих рекомбінаційних центрів в плівках CdTe. | uk_UA |
dc.description.abstract | The photosensitivity and the current flow mechanism in low-dimensional p-CdTe-SiO₂-Si heterostructures with deep impurity levels are studied. A picosecond photoconductivity was detected, which indicates the presence of a large concentration of surface recombination centers in CdTe films. | uk_UA |
dc.identifier.citation | Фоточувствительность и механизм протекания тока в гетероструктурах p-CdTe-SiO₂-Si с глубокими примесными уровнями / Н. Жураев, М. Халилов, С. Отажонов, Н. Алимов // Журнал физики и инженерии поверхности. — 2017. — Т. 2, № 1. — С. 29-32. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. | uk_UA |
dc.identifier.issn | 2519-2485 | |
dc.identifier.udc | 621. 315. 593 | |
dc.identifier.uri | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/122606 | |
dc.language.iso | ru | uk_UA |
dc.publisher | Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України | uk_UA |
dc.relation.ispartof | Журнал физики и инженерии поверхности | |
dc.status | published earlier | uk_UA |
dc.title | Фоточувствительность и механизм протекания тока в гетероструктурах p-CdTe-SiO₂-Si с глубокими примесными уровнями | uk_UA |
dc.title.alternative | Фоточутливість і механізм протікання струму в гетероструктурах p-CdTe-SiO₂-Si з глибокими домішковими рівнями | uk_UA |
dc.title.alternative | Photosensitivity and current flow mechanism in p-CdTe-SiO₂-Si heterostructures with deep impurity levels | uk_UA |
dc.type | Article | uk_UA |
Файли
Оригінальний контейнер
1 - 1 з 1
Завантаження...
- Назва:
- 04-Zhuraev.pdf
- Розмір:
- 824.89 KB
- Формат:
- Adobe Portable Document Format
Контейнер ліцензії
1 - 1 з 1
Завантаження...
- Назва:
- license.txt
- Розмір:
- 817 B
- Формат:
- Item-specific license agreed upon to submission
- Опис: