Deuterium trapping and sputtering of tungsten coatings exposed to low-energy deuterium plasma

dc.contributor.authorTolstolutskaya, G.D.
dc.contributor.authorKuprin, A.S.
dc.contributor.authorNikitin, A.V.
dc.contributor.authorKopanets, I.E.
dc.contributor.authorVoyevodin, V.N.
dc.contributor.authorKolodiy, I.V.
dc.contributor.authorVasilenko, R.L.
dc.contributor.authorIlchenko, A.V.
dc.date.accessioned2023-11-23T11:06:29Z
dc.date.available2023-11-23T11:06:29Z
dc.date.issued2020
dc.description.abstractProcesses of sputtering, surface modification and deuterium retention of tungsten coatings were studied under the influence of low-energy (500 eV) deuterium plasma with fluence (2·10²⁴D+/m²) at room temperature. The method of cathodic arc evaporation was used to deposit W and WN-coatings on stainless steel. Results of erosion studies indicated that the sputtering yields for coatings WN and W are 3.1·10⁻³ and 4.8·10⁻³ at./ion, respectively, and at least two times larger compared to bulk W but almost an order of magnitude smaller compared to ferritic martensitic steels. The total D retentions of W coatings were on the order of 5·10¹⁹D/m² and around one orders of magnitude lower than that of WN.uk_UA
dc.description.abstractВивчено процеси розпилення, модифікації поверхні і захоплення дейтерію в вольфрамових покриттях під впливом низькоенергетичної (500 еВ) дейтерієвої плазми з флюенсом (4·10²⁴D+/м²). Метод катоднодугового випаровування використано для осадження W- і WN-покриттів на нержавіючу сталь. Результати ерозійних досліджень показали, що коефіцієнти розпилення покриттів WN і W складають 3.1·10⁻³ і 4.8·10⁻³ ат./іон відповідно і, як мінімум, в два рази більше в порівнянні з масивним W, але майже на порядок величини менше в порівнянні з феритно-мартенситними сталями. Загальна кількість дейтерію, утримуваного в W-покритті, становила близько 5·10¹⁹D/м², що приблизно на один порядок нижче, ніж у WN.uk_UA
dc.description.abstractИзучены процессы распыления, модификации поверхности и захвата дейтерия в вольфрамовых покрытиях под воздействием низкоэнергетической (500 эВ) дейтериевой плазмы с флюенсом (4·10²⁴D+/м²). Метод катодно-дугового испарения использован для осаждения W- и WN-покрытий на нержавеющую сталь. Результаты эрозионных исследований показали, что коэффициенты распыления покрытий WN и W составляют 3,1·10⁻³ и 4,8·10⁻³ ат./ион соответственно и, как минимум, в два раза больше по сравнению с массивным W, но почти на порядок величины меньше по сравнению с ферритно-мартенситными сталями. Общее количество дейтерия, удерживаемого в W-покрытии, составляло около 5·10¹⁹D/м², что примерно на один порядок ниже, чем у WN.uk_UA
dc.description.sponsorshipThe work was financially supported by the National Academy of Science of Ukraine (program “Support of the development of main lines of scientific investigations” (KPKVK 6541230)).uk_UA
dc.identifier.citationDeuterium trapping and sputtering of tungsten coatings exposed to low-energy deuterium plasma / G.D. Tolstolutskaya, A.S. Kuprin, A.V. Nikitin, I.E. Kopanets, V.N. Voyevodin, I.V. Kolodiy, R.L. Vasilenko, A.V. Ilchenko // Problems of atomic science and tecnology. — 2020. — № 2. — С. 54-59. — Бібліогр.: 23 назв. — англ.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.otherPACS: 52.40Hf, 28.52Fa, 68.49Sf, 79.20Rf
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194363
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherНаціональний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofВопросы атомной науки и техники
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectPhysics of radiation damages and effects in solidsuk_UA
dc.titleDeuterium trapping and sputtering of tungsten coatings exposed to low-energy deuterium plasmauk_UA
dc.title.alternativeЗахоплення дейтерію і розпилення вольфрамових покриттів при дії низькоенергетичної дейтерієвої плазмиuk_UA
dc.title.alternativeЗахват дейтерия и распыление вольфрамовых покрытий при воздействии низкоэнергетической дейтериевой плазмыuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
09-Tolstolutskaya.pdf
Розмір:
905.88 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: