Технологічні методи керування властивостями наноструктурованого кремнію

dc.contributor.authorБілик, Т.Ю.
dc.contributor.authorШмирєва, О.М.
dc.contributor.authorМельниченко, М.М.
dc.date.accessioned2015-02-10T12:41:06Z
dc.date.available2015-02-10T12:41:06Z
dc.date.issued2009
dc.description.abstractПри формуванні наноструктурованого кремнію на підложжях монокристалічного кремнію відбувається зміна не тільки структурних властивостей, що призводить до зміни ширини забороненої зони і прояву квантоворозмірних ефектів, але й утворення на поверхні нових сполук кремнію з підвищеним вмістом водню й аморфного кремнію. Така складна структура обумовлює прояв нових електрофізичних, фотоелектричних, теплофізичних та фотолюмінесцентних властивостей, що дозволяє створювати нові типи напівпровідникових приладів, зокрема, фотоприймачі короткохвильової частини спектру. Метою даної роботи є подальше дослідження технологічних метод керування функціональними властивостями наноструктурованого кремнію із застосуванням нових складів щавників.uk_UA
dc.description.abstractFormation of nanoporous silicon on monocrystalline silicon wafers changes structural properties that results in forbidden-bandwidth change and quantumdimension effects appearance as well as appearance of new silicon compounds with higher hydrogen and amorphous-silicon contents on the silicon surface. Such a complex structure with new electrophysical, photoelectrical, thermophysical, and photoluminescent properties makes possible new types of semiconductor devices, in particular, light detectors of short-wave spectral range. Goal of this work is to study technological methods for governing by functional properties of nanoporous silicon using new compositions of etching agents.uk_UA
dc.description.abstractПри формировании наноструктурированного кремния на подложках монокристаллического кремния происходит изменение не только структурных свойств, что приводит к изменению ширины запрещенной зоны и проявлению квантово-размерных эффектов, но и к возникновению на поверхности новых соединений кремния с повышенным содержанием водорода и аморфного кремния. Такая сложная структура приводит к проявлению новых электрофизических, фотоэлектрических, теплофизических и фотолюминесцентных свойств, что позволяет создавать новые типы полупровод-никовых приборов, в частности, фотоприемники коротковолновой части спектра. Целью данной работы является дальнейшее изучение технологических методов управления функциональными свойствами наноструктурированного кремния с применением новых составов травителей.uk_UA
dc.identifier.citationТехнологічні методи керування властивостями наноструктурованого кремнію / Т.Ю. Білик, О.М. Шмирєва, М.М. Мельниченко // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2009. — Т. 7, № 2. — С. 395-402. — Бібліогр.: 9 назв. — укр.uk_UA
dc.identifier.issn1816-5230
dc.identifier.otherPACSnumbers:78.55.Mb,78.67.Rb,81.07.Bc,81.40.Tv,81.65.Cf,85.60.Dw,85.60.Gz
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/76425
dc.language.isoukuk_UA
dc.publisherІнститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofНаносистеми, наноматеріали, нанотехнології
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.titleТехнологічні методи керування властивостями наноструктурованого кремніюuk_UA
dc.title.alternativeTechnological Methods for Control of Nanostructured Silicon Properties
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
40-Bilyk.pdf
Розмір:
301.78 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: