The influence of HF discharge on plasma parameters of gas source with incandescent cathode

dc.contributor.authorShariy, S.V.
dc.contributor.authorYuferov, V.B.
dc.contributor.authorTkachova, T.I.
dc.contributor.authorSvichkar, A.S.
dc.contributor.authorShvets, M.O.
dc.contributor.authorTkachov, V.I.
dc.date.accessioned2017-01-17T16:03:51Z
dc.date.available2017-01-17T16:03:51Z
dc.date.issued2015
dc.description.abstractAn experimental study of the influence of HF power and configuration of the magnetic field on the plasma parameters of the gas source with incandescent cathode was carried out. It is shown that the application HF power into discharge results in reduction of electron temperature. For discharge in decreasing magnetic field the radial distribution of the plasma density in the axial region is more uniform compared with increasing magnetic field.uk_UA
dc.description.abstractПроведено експериментальне дослідження впливу ВЧ-потужності та конфігурації магнітного поля на параметри плазми газового джерела з розжарюваним катодом. Показано, що введення в розряд ВЧ-потужності призводить до зниження електронної температури. Для розряду в спадаючому магнітному полі радіальне розподілення щільності плазми в привісевій області більш однорідним в порівнянні із зростаючим магнітним полем.uk_UA
dc.description.abstractПроведено экспериментальное исследование влияния ВЧ-мощности и конфигурации магнитного поля на параметры плазмы газового источника с накаливаемым катодом. Показано, что введение в разряд ВЧ-мощности приводит к снижению электронной температуры. Для разряда в убывающем магнитном поле радиальное распределение плотности плазмы в приосевой области более однородное по сравнению с нарастающим магнитным полем.uk_UA
dc.identifier.citationThe influence of HF discharge on plasma parameters of gas source with incandescent cathode / S.V. Shariy, V.B. Yuferov, T.I. Tkachova, A.S. Svichkar, M.O. Shvets, V.I. Tkachov // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 3. — С. 136-138. — Бібліогр.: 9 назв. — англ.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.otherPACS: 52.50.Dg
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/112100
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherНаціональний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofВопросы атомной науки и техники
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectТеория и техника ускорения частицuk_UA
dc.titleThe influence of HF discharge on plasma parameters of gas source with incandescent cathodeuk_UA
dc.title.alternativeВплив ВЧ-розряду на параметри плазми газового джерела з розжарювальним катодомuk_UA
dc.title.alternativeВлияние ВЧ-разряда на параметры плазмы газового источника с накаливаемым катодомuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
24-Shariy.pdf
Розмір:
171.32 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: