Состав гальванического вольфрама и продуктов его окисления

Abstract

Методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии в гальваническом вольфраме непосредственно после его получения из водных растворов установлен W(0) причем его относительное количество возрастает по мере приближения к подложке. При взаимодействии с водой W(0), входящий в гальваническое покрытие, полностью окисляется, т. е. кинетические затруднения, характерные для W(0) в равновесном состоянии, отсутствуют.

Методом рентгенівської фотоелектронної спектроскопії у гальванічному вольфрамі безпосередньо після його отримання з водних розчинів встановлений W(0), його відносна кількість зростає з наближенням до підкладини. При взаємодії з водою W(0), який входить у гальванічне покриття, повністю окислюється, тобто кінетичні утруднення, що характерні для W(0) у рівноважному стані, відсутні.