Исследование характеристик покрытий, синтезированных с помощью источника газовой плазмы

Abstract

Проведены исследования характеристик Ti и TiN покрытий, полученных путем распыления мишени ионами, экстрагируемыми из источника газовой плазмы (ИГП). Показано, что такие покрытия, в отличие от вакуумно-дуговых, не содержат капель. Шероховатость покрытий из титана, синтезированных с помощью источника газовой плазмы, составляла 0,1 мкм, а вакуумно-дуговых – 0,6 мкм. Микротвердость покрытий из TiN достигала значений 33 ГПа. Плотность сквозных пор для покрытий, осажденных распылением мишени, в несколько раз ниже по сравнению с вакуумно-дуговыми покрытиями. С увеличением угла наклона мишени относительно оси ИГП от 0 до 60° скорость осаждения Ti покрытий возрастала примерно в два раза (от 2,5 до 5 мкм/ч). При осаждении покрытий с помощью ИГП обеспечивалось более эффективное использование распыляемого материала в сравнении с вакуумно-дуговым методом.

Проведено дослідження характеристик Ti і TiN покриттів, отриманих шляхом розпилення мішені іонами, екстрагованими з джерела газової плазми (ДГП). Показано, що такі покриття, на відміну від вакуумно-дугових, не містять краплі. Шорсткість покриттів з титану, синтезованих за допомогою джерела газової плазми, становила 0,1 мкм, а вакуумно-дугових – 0,6 мкм. Мікротвердість покриттів з TiN досягала значень 33 ГПа. Щільність наскрізних пор для покриттів, осаджених розпиленням мішені, у кілька разів нижче в порівнянні з вакуумно-дуговими покриттями. Зі збільшенням кута нахилу мішені щодо осі ДГП від 0 до 60° швидкість осадження Ti покриттів зростала приблизно у два рази (від 2,5 до 5 мкм/г). При осадженні покриттів за допомогою ИГП забезпечувалося більше ефективне використання матеріалу, що розпиляється, у порівнянні з вакуумно-дуговим методом.

Studies of characteristics of Ti and TiN coverages, got the way of sputtering target by the ions extraсted from the source of gas plasma (SGP), are undertaken. It is shown that such coverages, unlike vacuum-arc, do not contain dripping snow. Roughness of coverages from titanium, synthesized by means of source of gas plasma, made 0,1 micron, and vacuum-arc – 0,6 micron. The microhardness of coverages from TiN arrived at values 33 GPa. Density of through pores for the coverages precipitated by sputtering of target, in several times below as compared to vacuum-arc coverages. With the increase of angle of slope of target in relation to the axis of SGP from 0 to 60° speed of precipitating of Ti of coverages increased ~ in two times (from 2,5 to 5 micron/hour). At precipitating of coverages by means of SGP more effective use of the sputtered material was provided by comparison to a vacuumarc method.