Вторично-ионная эмиссия: матричный эффект

Abstract

В статье описана физическая природа зависимости вероятности ионизации распыл нных атомов от атомной и электронной структур металлической мишени, бомбардируемой ионами нейтральных газов (матричный эффект). Проведен систематический анализ литературных данных и результатов авторов данного обзора, полученных при исследовании вторичной ионной эмиссии (ВИЭ) чистых металлов, разбавленных твердых растворов и концентрированных сплавов.У статті описано фізичну природу залежности ймовірности йонізації розпорошених атомів від атомарної й електронної структур металевої мішені, бомбардовувано ї йонами нейтральних газів (матричний ефект). Проведено систематичну аналізу літературних даних і результатів авторів даного огляду, одержаних при дослідженні вторинної йонної емісії (ВЙЕ) чистих металів, розбавлених твердих розчинів і концентрованих стопів.The paper is concerned with the description of the physical nature of the dependence of the sputtered-atoms’ ionization probability on the atomic and electronic structures of a metal target bombarded with ions of neutral gases (matrix effect). A systematic analysis of the literature data and results of authors of this review is carried studying the secondary ion emission (SIE) of pure metals, dilute solid solutions, and concentrated alloys.