Физико-технологические основы получения резкого p–n-перехода
dc.contributor.author | Каримов, А.В. | |
dc.contributor.author | Ёдгорова, Д.М. | |
dc.contributor.author | Юлдашев, Ш.Ш. | |
dc.contributor.author | Болтаева, Ш.Ш. | |
dc.date.accessioned | 2014-01-14T23:12:25Z | |
dc.date.available | 2014-01-14T23:12:25Z | |
dc.date.issued | 2006 | |
dc.description.abstract | Приведен способ получения резкого p-n-перехода методом жидкостной эпитаксии. На основе эпитаксиальных p-n-переходов изготовлены полевые транзисторы, подтвердившие эффективность предложенного способа. | uk_UA |
dc.identifier.citation | Физико-технологические основы получения резкого p–n-перехода / А.В. Каримов, Д.М. Ёдгорова, Ш.Ш. Юлдашев, Ш.Ш. Болтаева // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2006. — № 4. — С. 59-60. — Бібліогр.: 4 назв. — рос. | uk_UA |
dc.identifier.issn | 2225-5818 | |
dc.identifier.uri | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52975 | |
dc.language.iso | ru | uk_UA |
dc.publisher | Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України | uk_UA |
dc.relation.ispartof | Технология и конструирование в электронной аппаратуре | |
dc.status | published earlier | uk_UA |
dc.subject | Технологические процессы и оборудование | uk_UA |
dc.title | Физико-технологические основы получения резкого p–n-перехода | uk_UA |
dc.title.alternative | Фізико-технологічні основи отримання різкого p-n-перехода | uk_UA |
dc.title.alternative | Physical-technological bases of reception sharp p-n-transition | uk_UA |
dc.type | Article | uk_UA |
Файли
Оригінальний контейнер
1 - 1 з 1
Контейнер ліцензії
1 - 1 з 1
Завантаження...
- Назва:
- license.txt
- Розмір:
- 817 B
- Формат:
- Item-specific license agreed upon to submission
- Опис: