Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing
| dc.contributor.author | Butenko, V.I. | |
| dc.contributor.author | Ivanov, B.I. | |
| dc.date.accessioned | 2017-01-04T18:48:13Z | |
| dc.date.available | 2017-01-04T18:48:13Z | |
| dc.date.issued | 2003 | |
| dc.description.abstract | It is shown, that in electromagnetic plasma lenses moment aberrations obey the conservation law of the moment of the ion generalized momentum; they disappear when an ion source is placed in a zero magnetic field. Geometrical aberrations can be removed by choice of the optimal electric field intensity distribution along the radius that have been calculated. As a result, the ion current density and beam compression can achieve in the focus a value up to 10³ A/cm², and 10⁵, accordingly. Then influence of discrete distribution of the external (boundary) electrical potential upon ion focusing was studied, and an example of two-lens achromatic system have been investigated as well. | uk_UA |
| dc.description.abstract | Досліджується плазмова лінза Морозова, у котрої магнітні поверхні є еквіпотенціалями електричного поля. Магнітне поле створюється центральним струмовим витком і двома бічними витками, включеними назустріч центральному. У роботі приведені результати комп'ютерного моделювання фокусування іонів з урахуванням їх поздовжнього, радіального й азимутального руху. Розглянуто засоби усунення моментних, геометричних і хроматичних аберацій. Проводиться оптимізація магнітного й електричного полів по величині і розподілу в просторі. Промодельоване вплив дискретного розподілу потенціалу на фокусування іонів і розглянуті пов'язані з цим аберації. Розглянуто комп'ютерну модель двухлінзової ахроматичної системи. | uk_UA |
| dc.description.abstract | Исследуется плазменная линза Морозова, в которой магнитные поверхности являются эквипотенциалями электрического поля. Магнитное поле создается центральным токовым витком и двумя боковыми витками, включенными навстречу центральному. В работе приведены результаты компьютерного моделирования фокусировки ионов с учетом их продольного, радиального и азимутального движения. Рассмотрены способы устранения моментных, геометрических и хроматических аберраций. Проводится оптимизация магнитного и электрического полей по величине и распределению в пространстве. Промоделировано влияние дискретного распределения потенциала на фокусировку ионов и рассмотрены связанные с этим аберрации. Рассмотрена компьютерная модель двухлинзовой ахроматической системы. | uk_UA |
| dc.description.sponsorship | The authors would like to thank A.A. Goncharov and I.M. Protsenko for consultations on their lenses | uk_UA |
| dc.identifier.citation | Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing / V.I. Butenko, B.I. Ivanov // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 1. — С. 121-124. — Бібліогр.: 11 назв. — англ. | uk_UA |
| dc.identifier.issn | 1562-6016 | |
| dc.identifier.other | PACS: 52.40.Mj | |
| dc.identifier.uri | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110539 | |
| dc.language.iso | en | uk_UA |
| dc.publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України | uk_UA |
| dc.relation.ispartof | Вопросы атомной науки и техники | |
| dc.status | published earlier | uk_UA |
| dc.subject | Plasma electronics | uk_UA |
| dc.title | Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing | uk_UA |
| dc.title.alternative | Аберації у електромагнітній плазмовій лінзі, запропонованої для фокусування інтенсивних широкоапертурних іонних пучків | uk_UA |
| dc.title.alternative | Аберрации в электромагнитной плазменной линзе, предложенной для фокусировки интенсивных широкоапертурных ионных пучков | uk_UA |
| dc.type | Article | uk_UA |
Файли
Оригінальний контейнер
1 - 1 з 1
Завантаження...
- Назва:
- 35-Butenko.pdf
- Розмір:
- 392.29 KB
- Формат:
- Adobe Portable Document Format
Контейнер ліцензії
1 - 1 з 1
Завантаження...
- Назва:
- license.txt
- Розмір:
- 817 B
- Формат:
- Item-specific license agreed upon to submission
- Опис: