Исследование кинетики образования фаз в системе MoSi₂-W в условиях нагрева при температурах 1500-1800 °С

Скорочена інформація про документ
dc.contributor.authorГлушко, П.И.
dc.contributor.authorЖуравлёв, А.Ю.
dc.contributor.authorСемёнов, Н.А.
dc.contributor.authorХованский, Н.А.
dc.contributor.authorШироков, Б.М.
dc.contributor.authorШиян, А.В.
dc.contributor.authorЩербакова, В.В.
dc.date.accessioned2016-06-20T13:56:12Z
dc.date.available2016-06-20T13:56:12Z
dc.date.issued2014
dc.description.abstractИсследована кинетика перераспределения фаз в системе MoSi₂-W при 1500—1800 °С. Определены кинетические параметры роста низших силицидов (Mo, W)5Si₃ и уменьшение слоя высшего силицида MoSi₂ в зависимости от температуры окисления. Установлено, что стабильность системы MoSi₂-W превышает стабильность систем MoSi₂-Mo и WSi₂-W.uk_UA
dc.description.abstractДосліджено кінетику перерозподілу фаз у системі MoSi₂-W при 1500—1800 °С. Визначено кінетичні параметри росту нижчих силіцидів (Mo, W)5Si₃ і зменшення шару вищого силіциду MoSi₂ залежно від температури окислення. Встановлено, що стабільність системи MoSi₂-W перевищує стабільність систем MoSi₂-Mo і WSi₂-W.uk_UA
dc.description.abstractThe kinetics of phase redistribution in the MoSi₂-W system has been investigated in the temperature range 1500—1800 °С. Kinetic parameters for growth of low silicides (Mo, W)5Si₃ and loss of the highest silicide MoSi₂ were determined depending on the temperature of oxidation. It is that stability of multicomponent and multiphase systems MoSі₂-W exceeds stability system MoSі₂-Mo and WSі₂-W.uk_UA
dc.identifier.citationИсследование кинетики образования фаз в системе MoSi₂-W в условиях нагрева при температурах 1500-1800 °С / П.И. Глушко, А.Ю. Журавлёв, Н.А. Семёнов, Н.А. Хованский, Б.М. Широков, А.В. Шиян, В.В. Щербакова // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 2. — С. 219-222. — Бібліогр.: 3 назв. — рос.uk_UA
dc.identifier.issn1999-8074
dc.identifier.udc669.018.298
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/103567
dc.language.isoruuk_UA
dc.publisherНауковий фізико-технологічний центр МОН та НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofФизическая инженерия поверхности
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.titleИсследование кинетики образования фаз в системе MoSi₂-W в условиях нагрева при температурах 1500-1800 °Сuk_UA
dc.title.alternativeДослідження кінетики утворювання фаз у системі MoSi₂-W в умовах нагрівання при температурах 1500—1800 °Сuk_UA
dc.title.alternativeThe kinetics of phase formation in system MoSi₂-W under heating at temperature 1500—1800 °Cuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
10-Glushko.pdf
Розмір:
1.3 MB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Завантажити

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Завантажити

Колекція

Физическая инженерия поверхности, 2014, № 2